MW-CVD装置は優れたマイクロ波結合技術と高安定・高密度プラズマ発生技術を利用し、専用に設計されたリアクターから構成されています。低真空域（＞１０Torr）、高真空域（<10Torr、マグネット＋ダウンストリームチャンバ（オプション）で安定した高密度プラズマを造りだします。
MW-CVD装置は炭素系薄膜（ダイヤモンド、微結晶ダイヤモンド（NCD）、カーボンナノチューブ（CNT））や非炭素系薄膜（GaN、SiC）、ガリュウム酸化膜、シリコンウイスカーなど最先端の高機能材料の合成に世界中で使用されています。
特にダイヤモンド薄膜の特性を利用した用途として、切削工具コーティング、放熱基板、SAW、半導体・電子材料として研究・開発されています。
また、微結晶ダイヤモンド（NCD）や超微結晶ダイヤモンドの特性を利用した新しいナノマテリアル材料として用途が注目されています。当社のCVD装置はこれらの研究・開発から生産用に幅広く利用されています

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