Go to Top Page
 top>ダイヤモンド成膜装置/表面改質気相成膜装置>熱フィラメントCVD装置 Go to Top Page
ダイヤモンド成膜用
大面積HF-CVD装置 Model 650

― ダイヤモンドの物理特性をMEMS材料に生かしましょう!―

【 特 徴 】

スムースな成膜
機械的強度、面摩擦に優れている
   
コンピュータコントロール
用途に応じた粒径のダイヤ膜が可能
成膜制御を多彩に行える研究用途にも適する。
   
大面積化
300mm x 300mm ウエーハ
立体形の試料への成膜も可能
   
ユニフォーミティ
±10 〜±20 %
   
安全性
ソフトウエア/ハードウエアのインターロックによりプロセスガス、真空系、電気系を保護
   
信頼性
MTBF 500時間以上
   
最新技術を集結
特許 5,833,753 5,997,650

Diamond Deposition Reactor Model 650

Model650 CVD装置でダイヤモンドの粒子サイズを制御して得られた膜


摺動部パーツ
(シール等) 

 磨耗部パーツ

マイクロ波プラズマCVD装置
熱フィラメントCVD装置
ナノ・コンポジット・コーティングシステム

 

このページのトップへ

ダイヤモンド成膜装置に戻る