【 特 徴 】
| スムースな成膜 |
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機械的強度、面摩擦に優れている |
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| コンピュータコントロール |
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用途に応じた粒径のダイヤ膜が可能 |
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成膜制御を多彩に行える研究用途にも適する。 |
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| 大面積化 |
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300mm x 300mm ウエーハ |
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立体形の試料への成膜も可能 |
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| ユニフォーミティ |
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±10 〜±20 % |
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| 安全性 |
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ソフトウエア/ハードウエアのインターロックによりプロセスガス、真空系、電気系を保護 |
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| 信頼性 |
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MTBF 500時間以上 |
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| 最新技術を集結 |
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特許 5,833,753 5,997,650 |
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Diamond Deposition Reactor Model 650
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Model650 CVD装置でダイヤモンドの粒子サイズを制御して得られた膜 |
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摺動部パーツ
(シール等) |
磨耗部パーツ |
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