屈折率・膜厚 測定装置
MODEL 2010 PRISM COUPLER |
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【オプション】
◆ 屈折率 対 温度測定
◆ 光伝搬損失測定(カットバック法の代わりの評価法として！)
◆ 各種通信用レーザー及び 短波長レーザー搭載
◆ TE(No)は標準装備でTM（Ne）モード測定 （複屈折率測定）
◆ 2-100 μm非接触膜厚測定VANFO |
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1980年に初期モデルが発売され、現在3世代目のモデル2010が世界有数の国で使用されております。その中でも日本ではかなりの使用実績がございまして、数多くのユーザー様にご支援、ご愛用いただいております。
Model 2010プリズムカプラは最新の光学技術を利用し、敏速かつ正確に誘電体及びポリマーの膜厚と屈折率を同時測定します。薄膜と光導波路のアプリケーションではモデル2010には従来の偏光分析法、分光測光法に基づく従来機に比べユニークな利点を提供します。 |
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| MODEL2010 プリズムカプラ 屈折率vs 温度・膜厚・伝搬損失測定装置 |
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| 【測定精度と分解能】（下記仕様は低分解能テーブルを使用時、他高分解能テーブルご選択可） |
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◆ 屈折率精度 |
：±0.001 |
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◆ 屈折率分解能 |
：±0.0003 |
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◇ 膜厚精度 |
：±(0.5%±50Å) |
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◇ 膜厚分解能 |
：±0.3% |
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| ① |
仮定値を必要となく、屈折率と膜厚値が同時計測できます（約30秒） |
| ② |
光学フイルム単体の高精度屈折率測定とフイルム厚さ同時評価が行えます。 |
| ③ |
屈折率対温度測定が可能です、精度有る安定した測定結果がご使用可能です。 |
| ④ |
短波長から通信波長の複数の波長搭載可能です。 |
| ⑤ |
拡散導波路材料測定にも最適な測定が出来ます。
(LN,Ti拡散、LiNbO3リチウムナイオベート) |
| ⑥ |
配向性高分子フイルムの3次元屈折率（Nx、Ny、Nz）測定可能です。 |
| ⑦ |
光伝搬損失測定が屈折率膜厚測定後に容易に行えます。（同一箇所繰返測定精度0.01db/cm） |
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| 上記特徴は、ほんの一例です。詳しくお知りなりたい方はアプリケーションノート等ご用意しておりますのでお問合せください。 |
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| ポリマー製造工程、光導波路、ディスプレイ技術、光/磁気記録媒体、光学素子、IC製造工程 |
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| 下記参考資料をご用意しておりますので、お問合せください。 |
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１． 機能と仕様 ------ Model 2010 プリズムカプラ
２． 機能と仕様 ------ 非接触VANFO膜厚測定オプション
３． アプリケーションノート
NOTE 101 酸化ケイ素中のリン及びその他のドープ剤モニタ
NOTE 102 レジスト膜、ポリイミド、ポリマーの高精度測定
NOTE 103 二層膜測定
NOTE 104 プリズムカプラ 主な適用分野
NOTE 105 光集積回路デバイス
NOTE 106 バルク材・厚みをもった膜の屈折率測定
NOTE 107 薄膜・バルク材測定の為のプリズムカプラ法 |
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| 以下は測定可能な膜と基板の代表的な一例です。膜厚が最小しきい値を越えていれば、実質的にはどのような膜と基板の組合せ（例：サファイア上の窒化ケイ素）でも測定可能です。膜と基板の組合せの測定可能最小膜厚については、当社までご相談ください。 |
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| Films |
Substrates |
| silicon nitride |
low-k dielectrics |
silicon |
| silicon dioxide |
ITO |
GaAs |
| silicon oxynitride |
sapphire |
quartz |
| photoresists |
zinc sulfide |
glass |
| polyimides |
titanium dioxide |
sapphire |
| polymers |
epi garnent |
GGG |
| silicon carbide |
holographic gels |
lithium niobate |
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| 【Option: 光伝搬損失測定/ 2010-WGL1/2】 |
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| ＜ 損失測定範囲 0.01～30 db/cm ＞ |
・ 最少損失は膜ガイドﾞからくるわずかな光量次第で可能です。
・ 測定時間は20秒ほどです。
（屈折率、膜厚測定後、数十秒後に損失測定の走査に入れます） |
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| ＜ 再現性 ＞ |
・ それぞれのサンプル測定ポイントにおいて通常の再現性： ±10% （ 例；1db/cmに対して±0.1db/cm ）
・ 単一 （ 同位置 ） の測定ポイントにおいて通常の再現性 ： ±5％ （ 例；1db/cmに対して±0.05db/cm ） |
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| ＜ 精 度 ＞ |
| 測定サンプルは標準サンプルではございませんので、膜質及び膜作製の良いプロファイル次第によります。 |
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| ＜ 波長測定範囲： 検出素子の測定域によります ＞ |
・ 450～1064 nm ( Option: 2010-WGL1 )
・ 600～1600 nm ( Option: 2010-WGL2 ) |
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| ＜ サンプルサイズ ＞ |
高さ5mm以上、幅40-50mm （これ以上の測定可能な場所あれば、より都合がよいです）
殆んどのサンプルサイズはそのままの状態で測定ができます。サンプル加工などの前処理は不要です。 |
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| 【Option : 光集積回路デバイス評価用レーザー】 |
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| ・ 2010-NSW-1550 |
1550nm diode laser |
| ・ 2010-NSW-1310 |
1310nm solid state laser |
| ・ 2010-NSW-980 |
980nm solid state laser |
| ・ 2010-NSW-＊＊ |
短波長レーザー、他ご希望の波長に関しては当社までお問合せください |
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| 【Option: 屈折率 対 温度測定：#2010-TEMP】 |
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オプション#2010-TEMPは150℃のサンプル温度加熱が可能で最小限電力量の使用及び、光学系を配慮した設計作りになっております。「精度ある測定」と「常に安定した測定」が可能です。
測定時間は温度セット及び温度上昇させて結果を取得するまで（一回の測定）3-10分程度です。
詳しくはお問合せください。 |
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